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    第九十一章 芯片与光刻 (第2/2页)



    在芯片领域的光刻,是利用某些具有对光线非常敏感特性的胶,均匀涂抹在晶圆上,然后再在胶的表面贴付一层薄膜,这层薄膜被设计成需要的电路图案。光线从电路图案中穿过,照射到胶的表面,胶因为对光线敏感于是发生反应,显露出和电路图案相同或相反的电路图案来,那些没有被光线照射到的地方,自然还是被胶覆盖着。

    然后,将晶圆浸入特制的溶液当中。

    如此一来,被胶覆盖着的地方,晶圆被保护了起来,没有变化。而那些没有胶的地方,特制溶液就将晶圆腐蚀了。

    腐蚀的痕迹,自然就和电路图案相同或者相反。

    晶圆从特殊溶液中取出,用纯净水一冲,上面就留下了所需要的电路图案。

    所以,与其说是光刻,不如说是蚀刻,腐蚀雕刻,只是这种“腐蚀雕刻”比一般所说的腐蚀雕刻在精度上高了n个等级,不可同日而语,所以起了个比较高大上的名字“光刻”。

    大致原理如此,但知易行难。

    一个小小的芯片,集成的电路宛若一个小型的世界,这里面的精度以纳米计算。

    只是辅助生产用的光刻胶,它所限制的厚度也都是以纳米来计算。

    譬如20纳米制程的芯片制造,需要的光刻胶厚度就不能超过100个纳米,更为先进的3-10纳米制程芯片,它所需要的光刻胶厚度就可想而知了。

    周飞宇暗暗思考了一会,知道以飞扬新材料目前的设备以及制程能力来说,还达不到这种技术,还需要一段时间的发展和扩充。

    “方便透露下,中正公司目前是在和哪家公司联合研发这一块吗?”

    周飞宇嘴上却没说什么,反而问了起来。

    “目前中正公司正在和金陵的华科新材公司合作,有望这个月完成arf线光刻胶的测试工作,下个月进入试产阶段。”

    余龙光这会没有隐瞒了,直接说道。

    当然,说完之后也不忘叮嘱下周飞宇注意保密工作。

    “了解了。”

    周飞宇点了点头,也知道中正公司是千方百计想要重回手机芯片行业,以至于在见识到他的材料研发能力后,余龙光都特意跑了过来和他聊。

    不过,余龙光所说的这个月完成arf线光刻胶测试,下个月进入试产,他是有点不信的,哪有这么快这么顺利的测试?

    余龙光见他反应不是很大,心下有些失望,随后便叹了口气后说道:“光刻胶领域技术难度大,市场容量却小,验证周期长,的确很多人企业或者团体不愿意往这方面投入。周总若是没这方面的想法,我们也能理解。”

    的确,光刻胶这个领域又难又没什么前途,而且难熬。

    玩家就那么几个,哪怕是你生产出了光刻胶,要想去验证这款胶好还是不好,你都没法验证,因为芯片制造商才那么几家,生产光刻机的制造商也是那么几家,它们既不会轻易的更换供应商,也不会随便就给人验证一款新材料。

    行业的垄断和顽固,技术的高难度,都阻挡了人们投入的兴趣。

    “余总您这激将法……”

    听着他的话,周飞宇却是轻笑一声。


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